- 磁控濺射鍍膜儀
- 培育鉆石
- 熱蒸發鍍膜儀
- 涂布機
- 可編程勻膠機
- PECVD氣相沉積系統
- 二合一鍍膜儀
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 等離子鍍膜儀
- 熱解噴涂
- 電子束，激光鍍膜儀
- 等離子清洗機
- CVD氣相沉積系統
- 多弧離子鍍膜儀
- 金剛石切割機
- 真空管式爐
- 立式管式爐
- 晶體生長爐
- 旋轉管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 快速退火爐
- 石墨烯制備
- 高溫熔煉爐
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 二硫化鉬制備
- 混料機設備
- 真空手套箱
- 粉末壓片機
- 真空熱壓機
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- UV光固機
- 注射泵
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 氣體分析儀
- 提拉涂膜機
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 其他產品
CY-MIOP500S-2TA多弧離子鍍鍍膜儀
多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其具有蒸鍍速率快，薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等優點。十分適合鍍硬質保護膜如TiN等。同時由于其通過控制氣氛可以改變膜層顏色，且膜層與基板結合牢固，故也可用于制作多種顏色的裝飾性膜。
設計特色
本設備配有兩個多弧靶，分置于腔體兩側。配合行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率，改善成效果，該鍍膜儀還采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的**。
|
產品型號 |
CY-MIOP500S-2TA |
||
|
真空腔體 |
水冷不銹鋼腔體 φ500mm X 490mm（H） 前開門式，配有φ100mm石英觀察窗 內置兩組紅外加熱燈，可對腔體烘烤除氣 預留多個CF接口，可安裝多路膜厚儀 |
||
|
進氣系統 |
質量流量計Ar氣0~200sccm， N2氣0~200sccm其他流量或者氣體可定制 |
||
|
供電要求 |
AC 220V 50Hz 10kW |
||
|
控制方式 |
15英寸觸控屏 組態控制軟件 |
||
|
多弧靶 |
數量規格 |
3英寸x2 |
|
|
安裝方式 |
腔體側方對置 |
||
|
工作電流 |
0~150A |
||
|
靶材厚度 |
max50mm，min20mm |
||
|
樣品臺 |
規格 |
行星式掛架 |
|
|
可懸掛樣品數 |
每支掛架上6個掛點，共計6個掛架 |
||
|
轉速 |
公轉轉速1~20rpm |
||
|
真空系統
|
產品型號 |
CY-GZK103-A |
|
|
分子泵 |
渦輪分子泵 |
||
|
前極泵 |
雙極旋片泵 |
||
|
抽氣速率 |
分子泵：600L/S |
綜合抽氣性能：30分鐘真空度可達：5×10E-3Pa |
|
|
旋片泵：1.1L/S |
|||
|
極限真空 |
5×10E-4Pa |
||
|
抽氣接口 |
KF40 |
||
|
排氣接口 |
KF16 |
||
|
真空測量 |
復合真空計 |
||
