產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 培育鉆石
- 熱蒸發鍍膜儀
- 涂布機
- 可編程勻膠機
- PECVD氣相沉積系統
- 二合一鍍膜儀
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 等離子鍍膜儀
- 熱解噴涂
- 電子束，激光鍍膜儀
- 等離子清洗機
- CVD氣相沉積系統
- 多弧離子鍍膜儀
- 金剛石切割機
- 真空管式爐
- 立式管式爐
- 晶體生長爐
- 旋轉管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 快速退火爐
- 石墨烯制備
- 高溫熔煉爐
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 二硫化鉬制備
- 混料機設備
- 真空手套箱
- 粉末壓片機
- 真空熱壓機
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- UV光固機
- 注射泵
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 氣體分析儀
- 提拉涂膜機
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 其他產品
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三溫區PECVD石墨烯... 三溫區PECVD廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上
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熱陰極直流等離子體化學... 熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備（DCCVD）是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
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卷對卷PECVD石墨烯... 卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發光設備和其他薄膜電子產...
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PECVD-R?旋轉等... 本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續...
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PE-HPCVD等離子... PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐，一套鎢絲蒸發源，一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。...
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PECVD鍍膜儀 CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應...
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單溫區旋轉PECVD石... 單溫區旋轉PECVD，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率...
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卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中...
